得益于*的工藝，臺積電今年的營收又要創新高，即便是沒有了華為這樣的客戶，也絲毫不受影響。
臺積電日前舉行南科3nm米晶圓廠上梁典禮，董事長劉德音透露，臺積電規劃的3nm廠廠房基地面積約為35公頃，當3nm進入量產時，當年產能預估將超過每月60萬片12寸晶圓。
劉德音還表示，臺積電營收去年已經連續 10 年創下紀錄，今年也將再刷新紀錄，南科營收 2019 年產值高達新臺幣 3,800 億元，占臺積電營業額的37%，今年預估將突破新臺幣4400億元。
報告顯示，今年臺積電營收之所以猛增，主要還是跟5nm、7nm工藝有關，因為市場需求非常的高，特別是蘋果的訂單，完全供應不上。
為了保持，臺積電已經下單訂購了至少13臺asml的twinscan nxe euv光刻機，將會在2021年全年交付，不過具體的交付和安裝時間表尚不清楚。同時，明年臺積電實際需求的數量可能是高達16到17臺euv光刻機。
目前，臺積電使用asml的twinscan nxe euv光刻機在其n7+以及n5節點上制造芯片，但在未來幾個季度，該公司將增加n6(實際上將在2020年第四季度或2021年*季度進入hvm)以及同樣具有euv層的n5p工藝。
臺積電對euv工具的需求正在增加是因為其技術越來越復雜，更多地方需要使用極紫外光刻工具處理。臺積電的n7+使用euv來處理多4層，以減少制造高度復雜的電路時多圖案技術的使用。
原標題：狂購*euv光刻機！臺積電今年營收將再創新高